リソグラフィーの工程では、ソフトベイクやハードベイクのプロファイルがわずか0.5度でもずれると、重要な寸法がナノメートル単位で変化してしまいます。不良品が1つ出れば、何日もその対処に時間を費やさなければなりません。
私たちは、このような状況に対応するために、このフォトレジスト焼成用ランプを開発しました。手動操作は不要で、信頼性の高い制御が可能です。
内部で何が重要か 石英製のケース内に短波長のハロゲン光源を搭載しており、フォトレジスト層を迅速に加熱しつつ、その安定性を維持します。ワークピース全体での温度の均一性は±0.1℃以内であり、同じ条件下での繰り返し精度は±0.2℃未満です。設定値の捕捉にかかる時間は2秒未満で、一度加熱が完了すれば、1時間あたりの温度変動は0.1℃未満に抑えられます。
この装置は、クラス1～100のクリーンルーム環境で使用でき、運転中に粒子が発生しないように設計されています。電力消費量やサイズも、既存のコーティング/焼成装置に直接接続できるように調整されており、標準的なツールの接続端子とも互換性があるため、導入も簡単です。
なぜこれが問題を防ぐのか このランプによって、フォトレジスト処理のプロセスが適切に管理されます。ソフトベイクやハードベイクのプロファイルが一定に保たれるため、線幅や側壁の角度、残留溶剤の量も規定値内に収まります。その結果、再作業が減り、スクラップも少なくなり、計画しやすいサイクルタイムが実現します。迅速な温度調整によりエネルギー消費も削減され、光源の寿命も長くなるため、メンテナンスの頻度も減ります。
設置時に注意すべき点 クリーンルーム向けの電気配線が必要であり、また、熱の影響がワークピース上に正確に集中するよう、光学的位置合わせも慎重に行う必要があります。また、閉ループ制御のためには、焼成プレート上に外部温度センサーが必要です。それがなければ、設定値に基づいて制御することはできません。
まずは実際の温度特性を把握するためのテストを行い、その後、設定を固定して次の工程に進みます。