버닝인 과정에서 온도는 단순한 설정 값에 불과한 것이 아닙니다. 온도 자체가 바로 처리 과정 그 자체입니다. 몇 도만큼의 오차라도 잠재적인 결함을 숨길 수 있으며, 실제로는 문제가 없는 웨이퍼들까지 폐기되는 결과를 초래할 수 있습니다. 저희는 이러한 불확실성을 제거하기 위해 특별한 가열 장치를 개발했습니다.
실제로 중요한 요소들 이 가열 장치는 근적외선(NIR)을 사용하여 웨이퍼를 빠르고 직접적으로 가열합니다. 이를 통해 열 축적을 최소화할 수 있습니다. 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지하며, 설정된 온도를 일관되게 유지합니다. 발광 소자는 1~100등급의 청정실 환경에서 사용할 수 있도록 설계된 석영 및 세라믹 재질로 만들어졌으며, 표면 처리를 통해 입자 발생을 최소화합니다. 따라서 매번 동일한 결과가 나오므로, 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서도 일관된 열 처리가 가능합니다.
왜 이 방식이 버닝인 과정에 적합한가? 버닝인 과정은 격렬해야 하지만, 함부로 처리해서는 안 됩니다. NIR을 사용하면 고속 테스트가 가능하며, 높은 일관성을 통해 웨이퍼의 섬세한 구조를 보호할 수 있습니다. 이를 통해 국부적인 과열 현상을 방지하여 포토레지스트가 변형되거나 스트레스가 발생하는 것을 막을 수 있습니다.
이 가열 장치는 24/7으로 작동하며, 정기적인 점검을 통해 안정적인 운영이 가능합니다. 에너지 사용량도 정확하게 측정되고 관리됩니다. 그 결과, 안정적인 결과가 얻어지고, 재테스트나 폐기물도 줄어듭니다.
중요한 세부 사항들 이 가열 장치는 일반적인 버닝인 장비 및 테스트 장비와 함께 사용될 수 있지만, 웨이퍼 평면과의 정확한 정렬이 매우 중요합니다. 설정 과정은 간단합니다. 거리, 각도, 방사율 등을 조정하기만 하면 됩니다.
만약 1등급에 가까운 청정실 환경에서 사용한다면, 추가적인 차폐 처리가 필요하며, 공기 흐름과 열 차단도 적절히 조절해야 합니다. 일단 정렬이 완료되면, 이 시스템은 예측 가능하고 측정 가능하며 반복 가능한 공정으로 작동합니다.