Ketika anda memanaskan wafer di kawasan pembersihan kimia, sebenarnya anda sedang bermain dengan api—secara literal. Terdapat wap-wap yang mudah terbakar dan meletup di sekeliling, jadi anda tidak boleh sekadar meletakkan lampu kuarsa biasa di atas bahan kimia tersebut dan berharap semuanya akan berjalan lancar. Itu merupakan cara yang pasti akan membawa kepada bencana.
Untuk memastikan keselamatan, kita perlu memberi jarak yang cukup antara lampu dan bahan kimia tersebut. Jarak ini bukanlah angka yang dipilih secara rawak; ia merupakan batasan yang penting. Lampu IR mengeluarkan radiasi yang sangat kuat. Jika permukaan lampu atau udara di sekelilingnya menjadi terlalu panas, wap kimia tersebut boleh terbakar dalam sekelip mata.
Kita mengira jarak tersebut berdasarkan kuasa lampu dan tekanan wap bahan kimia tersebut. Memang benar, jika lampu diletakkan lebih dekat, suhu akan meningkat lebih cepat. Namun, ini juga akan meningkatkan risiko lampu tersebut rosak. Oleh itu, sistem penyejukan perlu cukup kuat untuk mengalirkan haba dari bahagian lampu tersebut. Jika tidak, lapisan pengedap akan rosak.
Selain itu, kita juga perlu menggunakan lapisan pengedap yang khusus untuk melindungi komponen elektrik daripada udara yang korosif. Elektrod dan wayar dipbalut dengan bahan isolasi berkualiti tinggi yang mampu menahan tekanan dari wap asid. Ini dapat mengelakkan berlakunya percikan elektrik – yang boleh menyebabkan kebakaran. Dalam persekitaran yang mudah meletup, satu percikan saja sudah cukup untuk mencetuskan kebakaran.
Namun, ada trade-off yang perlu diambil kira. Dengan adanya lapisan pelindung antara sumber IR dan wafer, sedikit haba akan hilang. Anda mungkin perlu meningkatkan kuasa lampu atau membiarkan wafer berada di situ lebih lama agar suhu yang diinginkan dapat dicapai. Ini merupakan harga kecil yang perlu dibayar untuk memastikan proses pengeluaran berjalan lancar tanpa berlaku kebakaran. Lebih baik menggunakan kaedah yang lebih lambat daripada membiarkan kebakaran berlaku. Dengan cara ini, anda akan mendapat profil termal yang stabil dan boleh pulang ke rumah setelah selesai bekerja.