Im Bereich der Lithografie weiß man ja, wie es ist: Schon eine Abweichung von einem halben Grad im Profil der Weichbrennverfahren führt dazu, dass die kritischen Abmessungen um Nanometer abweichen. Ein einziger fehlerhafter Produktlot bedeutet, dass man tagelang dafür bezahlen muss.
Wir haben diese Lampen für genau diese Bedingungen entwickelt – ohne unnötige Komplikationen, sondern mit einer Kontrolle, auf die man sich verlassen kann.
Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden einen Kurzwellenhalogenglühstrahler in einer Quarzkapsel. Dieser sorgt dafür, dass die Photoresistschicht schnell erhitzt wird und dabei stabil bleibt. Auf der Oberfläche der Wafer liegt die Homogenität bei ±0,1°C, und die Wiederholgenauigkeit zwischen den einzelnen Prozessschritten liegt bei weniger als ±0,2°C. Die Einstellung der Temperatur erfolgt innerhalb von 2 Sekunden. Sobald die Wafer vollständig erhitzt sind, bleibt die Abweichung unter 0,1°C pro Stunde.
Die Konstruktion ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet. Zudem wird während des Betriebs praktisch keine Partikelbildung erzeugt. Leistung und Abmessungen sind so gewählt, dass die Lampen problemlos in vorhandene Anlagen integriert werden können. Die Anschlüsse entsprechen den Standards der gängigen Geräte, sodass eine Nachrüstung einfach möglich ist.
Warum das Probleme vermeidet
Diese Lampen halten den Prozess der Photoresistbehandlung unter Kontrolle. Sowohl die Profile der Weich- als auch der Hartbrennverfahren bleiben konstant, wodurch Breite der Linien, Winkel der Seitenwände sowie der Restgehalt an Lösungsmitteln innerhalb der vorgeschriebenen Grenzen bleiben.
Das bedeutet weniger Nacharbeiten, weniger Ausschuss sowie Planbarkeit der Produktionszeiten. Die schnelle Erwärmung mit minimalem Überschuss reduziert den Energieverbrauch. Zudem ermöglicht die lange Lebensdauer des Glühstrahlers längere Wartungsintervalle – weniger Ersatzteile, weniger ungeplante Stillstände.
Was bei der Installation zu beachten ist
Es wird eine elektrische Versorgung für Reinräume benötigt sowie eine genaue optische Ausrichtung, damit die Wärme genau dort entsteht, wo sie benötigt wird – nämlich auf der Wafer. Für eine geschlossene Regelung ist außerdem ein externer Temperatursensor erforderlich. Ohne diesen arbeitet die Lampe im offenen Regelkreis.
Führen Sie zunächst eine kurze Qualifizierungsprüfung durch, um den tatsächlichen Energieverbrauch festzustellen. Danach können Sie die Einstellungen festlegen und fortfahren.