Di bilik pengeluaran, suhu pemanasan sebanyak 90°C bukanlah cadangan semata-mata, tetapi merupakan spesifikasi yang wajib dipatuhi. Perubahan suhu sebanyak 2°C sahaja boleh mengganggu profil fotoresist, menyebabkan perubahan pada lebar garis yang dihasilkan, dan akhirnya menjadikan produk yang dihasilkan tidak layak untuk digunakan. Kami mencipta lampu pemanas inframerah khusus untuk situasi seperti ini.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Lampu tersebut menggunakan unsur halogen berfrekuensi gelombang pendek (SWIR) yang terletak di dalam selubung kuarsa. Energi yang dihasilkan disalurkan terus ke permukaan wafer, tanpa menyebabkan pemanasan udara di sekelilingnya. Kelebihannya ialah masa tindak balas yang cepat dan kawalan yang tepat. Pada wafer berukuran 300 mm, variasi suhu yang berlaku adalah ±0.1°C, manakala ketepatan pengulangan proses pemanasan pula adalah 0.05°C dalam masa 24 jam.
Peraturan di bilik bersih sangat ketat, jadi lampu ini direka untuk digunakan dalam persekitaran kelas 1–100. Kami menggunakan bahan-bahan yang mengeluarkan gas yang sedikit, serta sistem pembinaan yang memastikan jumlah zarah yang terhasil tetap stabil. Stabiliti output lampu pula ditetapkan pada tahap 2% dalam tempoh lebih dari 5,000 jam. Selain itu, badan lampu dilengkapi dengan antaramuka elektrik yang standard, agar ia dapat dipasang dengan mudah pada sistem yang sedia ada.
Mengapa ia berkesan di sini
Dalam proses litografi, langkah pemanasan ini menentukan jumlah pelarut yang diperlukan untuk fotoresist serta sudut sisi permukaan wafer sebelum proses pendedahan berlangsung. Lampu inframerah kami memberikan pemanasan yang cepat dan merata kepada wafer, sekali gus memendekkan masa proses tanpa memberi tekanan pada lapisan fotoresist. Sama ada proses pemanasan dilakukan secara perlahan atau cepat, prinsip pemanasan yang sama tetap digunakan, sekali gus mengurangkan keperluan untuk melakukan kerja semula dan meningkatkan hasil pengeluaran.
Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana haba disalurkan terus ke tempat yang diperlukan, iaitu pada lapisan fotoresist, bukannya ke dinding bilik pengeluaran. Kebolehpercayaan lampu ini juga tinggi, kerana ia mengurangkan risiko gangguan dalam proses pengeluaran.
Perkara yang perlu diketahui
Proses pemasangan lampu ini memerlukan penyesuaian geometri reflektor dan jarak fokus agar sesuai dengan laluan wafer. Jika penyesuaian ini tidak dilakukan dengan betul, keseragaman pemanasan akan terjejas. Lampu ini menghasilkan haba yang tinggi, jadi perlindungan dan mekanisme keselamatan perlu diperiksa sebelum proses pengeluaran dimulakan.
Kami menyokong integrasi lampu ini dengan kawalan yang biasa digunakan, namun profil pemanasan masih perlu disesuaikan mengikut keadaan khusus setiap kilang. Dengan pemilihan yang betul, lampu ini akan dapat berfungsi dengan baik dari satu batch ke batch yang lain.