Di bahagian pemprosesan litografi, anda tahu bagaimana keadaannya: sedikit perubahan dalam suhu semasa proses pembakaran photoresist sudah cukup untuk menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal bahan tersebut, iaitu dalam lingkungan nanometer. Jika terjadi kesilapan dalam proses ini, anda akan menanggung akibatnya untuk jangka masa yang lama.
Kami mencipta lampu pembakar photoresist ini untuk mengatasi masalah tersebut – tanpa sebarang gangguan, hanya kawalan yang boleh dipercayai sahaja.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami menggunakan emitor halogen berfrekuensi rendah yang diletakkan dalam pelindung kuarza. Emitter ini direka untuk memanaskan lapisan photoresist dengan cepat dan memastikan suhu tetap stabil. Di permukaan pembakaran, ketepatan suhu adalah antara ±0.1°C, manakala kebolehulangan proses pula melebihi ±0.2°C. Masa yang diperlukan untuk mencapai suhu yang ditetapkan adalah kurang dari 2 saat. Setelah proses pembakaran selesai, perubahan suhu yang berlaku adalah kurang dari 0.1°C sejam.
Peranti ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Ia juga direka supaya tidak menghasilkan zarah-zarah yang boleh merosakkan bahan yang diproses. Tenaga yang digunakan serta saiz peranti membolehkannya digunakan bersama sistem pembakaran yang sedia ada. Sambungan antara peranti ini dengan alat-alat lain juga mudah dilakukan.
Mengapa ini dapat membantu mengelakkan masalah
Lampu ini memastikan proses pembakaran photoresist berjalan seperti yang diharapkan. Profil suhu semasa proses pembakaran tetap stabil, sehingga lebar garisan, sudut dinding, dan baki pelarut tetap berada dalam julat yang ditetapkan.
Ini bermakna kurangnya keperluan untuk memproses semula bahan tersebut, kurangnya bahan buangan, dan masa yang diperlukan untuk menyelesaikan satu kitaran proses menjadi lebih efisien. Penggunaan tenaga juga berkurangan, dan jangka hayat emitter yang panjang memudahkan penyelenggaraan peranti tersebut.
Apa yang perlu dipertimbangkan semasa pemasangan
Anda memerlukan sistem elektrik yang sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih, serta penyesuaian optik yang tepat agar suhu tetap stabil pada permukaan wafer. Kontrol berbentuk loop tertutup juga memerlukan sensor suhu luaran di permukaan pembakaran. Tanpa sensor ini, proses pengawalan suhu akan menjadi tidak tepat.
Lakukan ujian awal untuk mengetahui batasan suhu yang boleh dicapai, kemudian tetapkan parameter yang sesuai sebelum meneruskan proses pemprosesan.