Nelle linee di produzione, una cottura a 90°C non è certo una semplice raccomandazione: è infatti un requisito obbligatorio. Una variazione di 2°C può alterare il profilo termico del fotorestista, causando variazioni nella larghezza delle linee tracciate sul wafer; in tal caso, il prodotto finito diventa inutilizzabile. Abbiamo progettato le nostre lampade a infrarossi per affrontare precisamente queste situazioni.
Cosa è importante dal punto di vista tecnico Le lampade utilizzano elementi a ioduro di mercurio che emettono radiazioni a onde corte, all’interno di involucri in quarzo. Questo permette di trasferire l’energia direttamente sul wafer, con un minimo riscaldamento dell’aria circostante. Il risultato è una risposta rapida e un controllo preciso della temperatura. Su un wafer di 300 mm, la variazione di temperatura rimane entro i ±0,1°C, mentre la ripetibilità è inferiore a 0,05°C nel corso di 24 ore.
Le regole dei ambienti puliti sono fondamentali: per questo motivo, le lampade sono progettate per essere utilizzate in ambienti di classe 1–100. Utilizziamo materiali con bassa emissione di gas e tecniche di assemblaggio che permettono di mantenere basso il numero di particelle presenti nell’ambiente. La stabilità dell’output è garantita entro il 2% nel corso di oltre 5.000 ore di funzionamento. Inoltre, il corpo della lampada presenta interfacce elettriche standard, permettendone l’installazione senza alcun problema nei sistemi esistenti.
Perché funziona qui Nella litografia, la fase di cottura determina le caratteristiche del fotorestista e l’angolazione delle pareti laterali prima dell’esposizione. Le nostre lampade a infrarossi agiscono rapidamente e uniformemente sul wafer, riducendo così i tempi di ciclo senza sollecitare eccessivamente il film fotorestistico. Sia la cottura “soft” che quella “hard” avvengono con lo stesso livello di controllo termico, riducendo così il numero di lavorazioni di correzione e migliorando il tasso di produzione.
L’uso energetico diminuisce, poiché il calore viene concentrato esattamente dove è necessario, cioè sul fotorestista, invece di riscaldare le pareti della camera di produzione. Inoltre, la affidabilità delle lampade significa meno fermate improvvise: nessuna sostituzione della lampada durante la produzione, nessuna necessità di correggere errori tra un lotto e l’altro.
Cose da sapere L’installazione richiede che la geometria del riflettore e la distanza focale siano adeguati al percorso del wafer. Se questa allineazione non è corretta, l’uniformità termica sarà compromessa. Le lampade generano molto calore, quindi è necessario verificare adeguatamente i sistemi di protezione e di sicurezza prima di poter utilizzare le lampade in produzione.
Sosteniamo l’integrazione con i controller comuni, ma il profilo di cottura richiede comunque una mappatura specifica per tenere conto del carico termico presente nella struttura della macchina. Se si effettua una corretta caratterizzazione iniziale, le lampade permetteranno di mantenere costanti le condizioni di produzione, lotto dopo lotto.