Lâmpada de secagem de fotorevestimento

Sun, 21 Jun 2026 02:32:41 +0800

Na área de litografia, você sabe como é: uma pequena variação de meio grau no perfil de aquecimento já faz com que as dimensões críticas do material fiquem fora dos padrões, em termos de nanômetros. Um lote defeituoso pode causar problemas por dias a fio.

Nós desenvolvemos essa lâmpada de aquecimento para lidar com essa realidade – sem arranjos improvisados, apenas controle confiável.

O que é importante internamente Utilizamos um emissor de halogênio de onda curta, localizado dentro de um invólucro de quartzo. Isso permite que a camada de fotoresisto seja aquecida rapidamente e mantida estável. A uniformidade na superfície de aquecimento fica dentro de ±0,1°C, e a repetibilidade entre diferentes ciclos fica abaixo de ±0,2°C. O tempo necessário para atingir a temperatura desejada é inferior a 2 segundos. Uma vez que o material esteja completamente aquecido, a variação de temperatura fica abaixo de 0,1°C por hora.

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