Di lantai pengeluaran, perubahan suhu yang sedikit sekalipun boleh menyebabkan profil fotoresist menjadi tidak tepat. Ini akan menyebabkan proses pengeluaran terhenti, jumlah zarah yang terhasil meningkat, dan kadar pengeluaran menurun sebelum sebarang pemeriksaan kecacatan dilakukan. Kami telah mencipta pemanas inframerah untuk mengurangkan variasi suhu tersebut, agar proses litografi tetap berjalan dengan lancar, dari satu syif ke syif yang lain.
Komponen utama pemanas ini ialah penyebar inframerah gelombang pendek yang disesuaikan dengan sifat penyerapan bahan fotoresist yang digunakan. Dengan reka bentuk berasaskan kuarsa ini, suhu pada permukaan wafer dapat dikawal dengan ketepatan ±0.1°C. Pemanas ini sesuai digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100, dan mampu mengelakkan penghasilan zarah-zarah yang tidak diinginkan. Dalam praktiknya, ini bermakna profil suhu semasa proses pembakaran fotoresist tetap stabil walaupun selepas ribuan kitaran, dan kawalan dimensi yang penting juga dapat dipertingkatkan tanpa perlu risau tentang perubahan suhu.
Kestabilan proses pengeluaran dapat dicapai dengan mudah. Ketepatan suhu semasa proses pembakaran fotoresist yang lebih tinggi dapat mengurangkan kesilapan antara baris-baris pengeluaran, serta mengurangkan sisa bahan yang tidak digunakan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemanas dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, dan mengekalkannya dengan ketepatan yang tinggi. Kebolehpercayaan pemanas ini membolehkannya beroperasi 24/7, sekali gus mengurangkan kos yang timbul akibat gangguan operasi atau keperluan alat ganti kecemasan. Hasilnya ialah kadar pengeluaran yang lebih tinggi dan masa operasi yang lebih dapat diramalkan—dua faktor yang penting untuk meningkatkan keuntungan syarikat.
Pemasangan pemanas ini agak mudah pada kebanyakan platform, namun geometri komponennya perlu diperhatikan dengan teliti. Pastikan jarak antara komponen penyebar inframerah, reflektor, dan sensor mencukupi sebelum melakukan penggantian. Pastikan juga sistem kawalan suhu dapat mengikuti kelajuan tindak balas pemanas tersebut. Proses penyesuaian memerlukan masa yang singkat agar suhu dapat dikawal dengan baik.