Lampe per la cottura del fotoresist

Sun, 21 Jun 2026 02:32:41 +0800

Nel processo di litografia, si sa come funziona: anche un piccolo scostamento di mezzo grado nel profilo di riscaldamento può far sì che le dimensioni critiche del prodotto cambino di diversi nanometri. Un lotto difettoso comporta costi elevati e tempi lunghi per risolvere il problema.

Abbiamo progettato questa lampada per affrontare questa realtà: niente soluzioni fai-da-te, solo un controllo preciso su cui poter contare.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Utilizziamo un emettitore a raggi halogenici a corta lunghezza d’onda, inserito in un involucro di quarzo, per riscaldare rapidamente lo strato di fotorestante e mantenerlo stabile. Sulla superficie di riscaldamento, l’uniformità è mantenuta entro ±0,1°C, mentre la ripetibilità tra i vari cicli è superiore a ±0,2°C. Il tempo necessario per raggiungere la temperatura desiderata è inferiore a 2 secondi; una volta raggiunta la temperatura ideale, lo scostamento rimane sotto i 0,1°C all’ora.

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Lampe per la cottura del fotoresist