Lampada di riscaldamento per il test di burn in dei wafer

Thu, 25 Jun 2026 01:31:54 +0800

Nella linea di burn-in, la temperatura non è semplicemente un altro parametro da impostare; essa rappresenta addirittura il processo stesso. Una variazione di pochi gradi può nascondere difetti latenti oppure causare dei falsi segnali di guasto, con conseguente spreco di wafer che invece avrebbero potuto essere inviati ai clienti. Abbiamo progettato la lampada di riscaldamento in modo da eliminare questa incertezza.

Ciò che è davvero importante
La lampada utilizza raggi infrarossi per effettuare un riscaldamento rapido e diretto, riducendo al minimo l’effetto della massa termica. Riusciamo a mantenere una uniformità delle temperature entro i ±0,1°C, garantendo stabilità durante tutto il processo di riscaldamento. L’elettrodo emittente è posizionato all’interno di un组件 in quarzo e ceramica, adatto all’uso in ambienti puliti di classe 1–100; le superfici sono state selezionate apposta per minimizzare la produzione di particelle. Il livello di output rimane costante da un ciclo all’altro, quindi i profili di riscaldamento risultano sempre precisi.

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Lampada di riscaldamento per il test di burn in dei wafer