<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Ujian on Online Store for Infrared Heaters</title>
		<link>http://ir-heater-online.com/id/tags/ujian/</link>
		<description>Recent content in Ujian on Online Store for Infrared Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 01:31:54 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-online.com/id/tags/ujian/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk uji kerusakan wafer</title>
				<link>http://ir-heater-online.com/id/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 01:31:54 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-online.com/id/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-online.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk uji kerusakan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses burn-in, suhu bukan sekadar pengaturan tambahan saja. Suhu merupakan bagian penting dari proses tersebut. Perubahan suhu sebesar beberapa derajat saja sudah cukup untuk menyembunyikan cacat-cacat yang ada pada wafer, atau bahkan memicu kegagalan palsu sehingga wafer yang seharusnya dikirim menjadi limbah. Kami merancang lampu pemanas khusus untuk proses burn-in ini, agar ketidakpastian tersebut dapat dihilangkan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang benar-benar penting dalam proses ini?&lt;/strong&gt;&#xA;Lampu tersebut menggunakan sinar inframerah dekat (NIR) untuk memanaskan wafer dengan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;cepat&lt;/a&gt; dan efektif, serta mengurangi efek termal yang tidak diinginkan. Tujuan kami adalah mencapai tingkat keseragaman suhu pada wafer hingga ±0,1°C, dengan stabilitas penyetelan suhu selama proses pemanasan berlangsung. Array emitor lampu tersebut terletak di dalam struktur kuarsa dan keramik yang dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Permukaannya dirancang sedemikian rupa agar jumlah partikel yang dihasilkan mendekati nol. Hasil pemantauan suhu &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;tetap&lt;/a&gt; konsisten dari satu kali pemrosesan ke pemrosesan berikutnya, sehingga profil pemanasan tetap stabil.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
