Chaleur tissulaire par remplacement de plaque chauffante par radiateur infrarouge

Tue, 23 Jun 2026 13:14:35 +0800

Dans les usines de lithographie, même une légère variation de température, même infime, peut perturber les paramètres de fonctionnement du photorésistant. La ligne de production s’arrête, le nombre de particules augmente, et le taux de production diminue avant même que l’on puisse examiner les défauts. Nous avons conçu des chauffeurs à rayonnement infrarouge pour éliminer cette variabilité thermique, afin que la lithographie reste conforme aux spécifications, cycle après cycle.

Le cœur de ces chauffeurs est un émetteur à rayonnement infrarouge à longue onde, adapté à l’absorption des différentes composantes chimiques utilisées dans les photorésistants. On obtient ainsi une uniformité thermique au niveau de la wafer de ±0,1 °C, grâce à une conception basée sur le quartz, qui permet une transmission efficace de l’énergie et un maintien précis de la température. Le corps du chauffeur convient aux supports standards utilisés dans les chambres propres de classe 1–100. De plus, il est conçu pour ne pas générer de particules indésirables. En pratique, cela signifie que les paramètres de cuisson restent stables pendant des milliers de cycles, ce qui améliore le contrôle des dimensions critiques sans avoir à gérer les variations thermiques.

Chaude on Online Store for Infrared Heaters

Chaleur tissulaire par remplacement de plaque chauffante par radiateur infrarouge