Dans le domaine de la lithographie, on sait bien comment ça se passe : un décalage de demi-degré dans les paramètres de chauffage suffit pour que les dimensions critiques du produit en soient affectées, avec des écarts de quelques nanomètres. Un seul lot défectueux peut entraîner des coûts importants pendant des jours.
Nous avons conçu cette lampe de séchage du photo-résistant pour faire face à cette réalité : pas de solutions approximatives, mais plutôt un contrôle fiable sur lequel on peut compter.
Ce qui est important au niveau technique Nous utilisons un émetteur halogène à ondes courtes, enfermé dans une enveloppe en quartz. Cet émetteur permet de chauffer rapidement la couche de photo-résistant tout en maintenant sa stabilité. La uniformité de température sur toute la surface de cuisson reste inférieure ou égale à ±0,1 °C, tandis que la répétabilité d’un lot à l’autre est supérieure à ±0,2 °C. Le temps nécessaire pour atteindre la température souhaitée est inférieur à 2 secondes. Une fois que la température est atteinte, le décalage reste inférieur à 0,1 °C par heure.
L’appareil est compatible avec des salles propres de classe 1 à 100. Il est également conçu pour ne produire pratiquement aucune particule pendant son fonctionnement. Ses besoins en énergie et sa taille permettent son intégration directe dans les systèmes existants. Les connexions électriques correspondent aux normes standards, ce qui facilite son installation.
Pourquoi cela évite les problèmes Cette lampe permet de maintenir les paramètres de traitement du photo-résistant sous contrôle. Les profils de chauffage restent stables, ce qui permet de garantir que la largeur des lignes, l’angle des parois latérales et la quantité de solvants résiduels restent dans les limites prescrites.
Cela signifie moins de retouches, moins de déchets, et un temps de cycle plus prévisible. Un réchauffement rapide avec un minimum d’excès de température permet de réduire la consommation d’énergie. De plus, la longévité de l’émetteur prolonge les intervalles de maintenance, ce qui réduit le nombre de pièces de rechange nécessaires et les temps d’arrêt imprévus.
À prendre en compte lors de l’installation Il vous faudra un système électrique adapté aux exigences des salles propres, ainsi qu’une alignment optique précise, afin que la chaleur soit concentrée exactement là où elle doit l’être : sur la Wafer. Un contrôle en boucle fermée nécessite également un capteur de température externe ; sans lui, vous devrez travailler en mode boucle ouverte.
Menez d’abord des tests pour déterminer le budget thermique réel, puis fixez les paramètres et continuez.