Wafer Burn in Test Heizlampe

Thu, 25 Jun 2026 01:31:54 +0800

In der Burn-in-Einheit ist die Temperatur nicht einfach nur eine weitere Einstellung – sie ist vielmehr der eigentliche Prozessbestandteil. Eine Abweichung von ein paar Grad kann verborgene Defekte verdecken – oder zu falschen Fehlermeldungen führen, wodurch Wafer, die eigentlich versandt werden sollten, als defekt eingestuft werden. Wir haben unsere Heizlampe für das Burn-in-Verfahren so konstruiert, dass diese Unsicherheiten beseitigt werden.

Was wirklich wichtig ist
Die Lampe nutzt Near-Infrarot-Strahlung, um die Wafer schnell und effektiv zu erhitzen – dabei bleibt die Wärmeabgabe gering. Wir streben eine Homogenität auf Waferebene von ±0,1°C an. Dadurch bleibt die Setpunktkonstanz während des Heizvorgangs gewährleistet, ohne dass es zu Überschreitungen kommt. Der Emittorenarray befindet sich in einer Ausführung aus Quarz und Keramik, die für den Einsatz in Reinräumen der Klasse 1–100 geeignet ist. Die Oberflächen sind so gewählt, dass die Bildung von Partikeln möglichst vermieden wird. Die Leistung der Lampe bleibt von Lauf zu Lauf konstant – dadurch bleiben auch die Profile für das Weich- und Hartheizen gleich.

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