Hochwirksame Wafer Trocknungsdose

Mon, 29 Jun 2026 02:58:43 +0800

Im Produktionsprozess ist die Trocknungslampe kein „nice-to-have“-Element – sie ist vielmehr eine entscheidende Komponente für die Qualität des Endprodukts. Eine Abweichung von ±0,5 °C während des Trocknungsprozesses kann dazu führen, dass die Profilparameter des Photoresists verändert werden. Das bedeutet wiederum höhere Kosten durch Ausschuss und Nachbearbeitung. Wir haben daher eine hocheffiziente Trocknungslampe entwickelt, die die Temperatur konstant hält – damit die Lithografie- und Verpackungsschritte immer innerhalb der vorgegebenen Parameter ablaufen können.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Kurzwellenhalogenquellen in einem Quarzkäfig – dieser Käfig sorgt für eine schnelle Reaktion sowie eine stabile Strahlungsleistung. Dadurch wird eine Temperaturgleichmäßigkeit auf der Waferoberfläche von ±0,1 °C erreicht. Das wiederum ermöglicht eine zuverlässige Aushärtung des Photoresists.

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