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		<title>Backen on Online Store for Infrared Heaters</title>
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		<description>Recent content in Backen on Online Store for Infrared Heaters</description>
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				<title>Fotoresist Ofenlampe</title>
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				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 02:32:41 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-online.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Fotoresist Ofenlampe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Im Bereich der Lithografie weiß man ja, wie es ist: Schon eine Abweichung von einem halben Grad im Profil der Weichbrennverfahren führt dazu, dass die kritischen Abmessungen um Nanometer abweichen. Ein einziger fehlerhafter Produktlot bedeutet, dass man tagelang dafür bezahlen muss.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Wir haben diese Lampen für genau diese Bedingungen entwickelt – ohne unnötige Komplikationen, sondern mit einer Kontrolle, auf die man sich verlassen kann.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Wir verwenden einen Kurzwellenhalogenglühstrahler in einer Quarzkapsel. Dieser sorgt dafür, dass die Photoresistschicht schnell erhitzt wird und dabei stabil bleibt. Auf der Oberfläche der Wafer liegt die Homogenität bei ±0,1°C, und die Wiederholgenauigkeit zwischen den einzelnen Prozessschritten liegt bei weniger als ±0,2°C. Die Einstellung der Temperatur erfolgt innerhalb von 2 Sekunden. Sobald die Wafer vollständig erhitzt sind, bleibt die Abweichung unter 0,1°C pro Stunde.&lt;/p&gt;</description>
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