Di lantai litografi, drift setengah derajat selama soft bake sudah cukup untuk mengubah lebar garis Anda dalam nanometer. Jalankan hard bake sedikit terlalu panas, dan Anda akan membakar cacat yang dapat berlanjut hingga uji akhir. Jika Anda mengejar hasil, “hangat” tidak cukup baik. Anda memerlukan pemanas yang mempertahankan uniformitas tingkat wafer—stabil, shift demi shift, di cleanroom Kelas 1–100.
Apa yang penting di bawah kap
Kami membangun pemanas fab di sekitar elemen inframerah gelombang pendek dan rakitan termal kuarsa. Panasnya datang dengan cepat, tetap bersih, dan Anda dapat menjaga suhu dalam kontrol yang ketat. Di seluruh wafer, targetnya adalah uniformitas ±0.1°C, dan keterulangan tetap dalam anggaran thermal yang ketat sehingga setiap bake menghasilkan hasil yang sama seperti yang terakhir. Kontrolnya dikalibrasi untuk jendela proses semikonduktor, dan perangkat kerasnya dirancang untuk beroperasi 24/7 tanpa waktu henti yang mengejutkan. Generasi partikel dihilangkan dari paket, dan material dipilih untuk tahan terhadap siklus thermal berulang tanpa penguapan.
Mengapa ini berhasil dalam proses nyata
Dalam pemrosesan photoresist, jenis presisi ini memberi Anda kontrol dimensi kritis yang stabil dan lebih sedikit lot yang perlu dikerjakan ulang. Dalam pengemasan, pemanasan yang konsisten meningkatkan adhesi dan kontrol void, yang mengurangi limbah dan pengulangan kerja. Manfaat sehari-hari adalah lebih sedikit penyimpangan, waktu siklus yang dapat Anda andalkan, dan penghematan nyata pada energi dan suku cadang. Ketika pemanas berfungsi dengan baik, proses juga berfungsi dengan baik.
Berikut adalah detail praktisnya
Unit-unit ini terintegrasi dengan baik ke dalam platform alat yang ada, tetapi kebutuhan jejak dan antarmuka bervariasi menurut mesin. Dapatkan tegangan, jenis konektor, dan dimensi pemasangan yang ditentukan sebelumnya agar Anda tidak berakhir melakukan modifikasi lapangan. Rencanakan pengujian commissioning yang singkat untuk mengunci setpoint di seluruh resep soft bake dan hard bake Anda.
Satu batasan yang tidak dapat Anda abaikan: pemanas harus cocok dengan massa thermal ruang. Jika penghubungan thermal tidak tepat, uniformitas akan hancur—bahkan dengan elemen berkualitas tinggi.